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動(dòng)態(tài)激光干涉儀的應(yīng)用及作用
2024-11-01

動(dòng)態(tài)激光干涉儀是一種高精度的光學(xué)測(cè)量?jī)x器,主要用于測(cè)量光學(xué)元件的表面形貌、材料的熱膨脹系數(shù)、機(jī)械應(yīng)力場(chǎng)等。該儀器基于干涉原理,通過(guò)激光光束的干涉效應(yīng)來(lái)實(shí)現(xiàn)對(duì)被測(cè)對(duì)象的測(cè)量和分析。它廣泛應(yīng)用于工業(yè)生產(chǎn)、科學(xué)研究、醫(yī)學(xué)診斷等領(lǐng)域,具有高精度、快...

  • 2022-11-25

    一、特點(diǎn)固有振動(dòng)頻率是指某種物體共振的頻率,阻尼則是指在振動(dòng)運(yùn)動(dòng)中消除能量、以減輕振動(dòng)的特點(diǎn)。固有振動(dòng)頻率與地基振動(dòng)的振動(dòng)頻率比(f/fn)稱作振動(dòng)傳遞率,是判定隔振效果的標(biāo)準(zhǔn)。固有振動(dòng)頻率愈小、地基振動(dòng)頻率愈大,隔振臺(tái)的隔振效率愈高。也就是說(shuō),振動(dòng)傳遞率愈低,隔振效果愈佳。振動(dòng)頻率比(f/fn)低于1.414時(shí)為增幅,數(shù)值為1時(shí)固有振動(dòng)頻率與地基振動(dòng)頻率相同,高于1.414則實(shí)現(xiàn)隔振。隔振臺(tái)一般分為線圈彈簧(CoilSpring)和空氣彈簧(AirSpring)兩種,線圈彈...

  • 2022-11-25

    HERZ是聞名的隔振臺(tái)系統(tǒng)方案供應(yīng)商之一。在納米技術(shù)的時(shí)代,極之微細(xì)的振動(dòng)已對(duì)搜索結(jié)果造成極大的影響,必須改善測(cè)量環(huán)境,以發(fā)揮儀器的最佳效能,達(dá)到最佳成果。從高層次的研究乃至各個(gè)行業(yè)的基本生產(chǎn),要想有效地發(fā)展納米技術(shù),消除振動(dòng)尤為重要!在過(guò)去的40年里,HERZ已發(fā)展成為被動(dòng)式隔振設(shè)備的主流供應(yīng)商,在該領(lǐng)域積累了豐富經(jīng)驗(yàn)。與此同時(shí),測(cè)量技術(shù)有了很大進(jìn)步,一些靈敏的設(shè)備會(huì)受到被動(dòng)式隔振系統(tǒng)中低頻共振頻率的干擾,此類干擾唯有主動(dòng)式隔振系統(tǒng)能夠消除。因此,HERZ在被動(dòng)式隔振系統(tǒng)產(chǎn)...

  • 2022-11-24

    接下來(lái)為大家介紹ThetaMetrisis膜厚儀在氧化釔(Y2O3)涂層厚度方面的測(cè)量應(yīng)用。ThetaMetrisis膜厚儀可快速準(zhǔn)確地繪制大尺寸氧化鋁陶瓷圓盤上的抗等離子涂層Y2O3厚度。1、案例介紹集成電路特征尺寸的持續(xù)縮小,對(duì)化學(xué)機(jī)械拋光后的平整度要求日益提高。氧化釔(Y2O3)是一種非常有前景的抗等離子涂層材料,可作化學(xué)機(jī)械拋光(CMP)磨料,應(yīng)用十分廣泛。因其優(yōu)異的溫度穩(wěn)定性和對(duì)具有高氧親和力的堿性熔體的出色耐受性,Y2O3被用在許多特殊材料上,例如絕緣體、玻璃、導(dǎo)...

  • 2022-11-24

    FR-Scanner-AIO-Mic-XY200是一款自動(dòng)薄膜厚度測(cè)繪系統(tǒng),光學(xué)膜厚儀用于全自動(dòng)圖案化晶圓上的單層和多層涂層厚度測(cè)量。電動(dòng)X-Y載物臺(tái)提供適用尺寸200mmx200mm的行程,可在200-1700nm光譜范圍內(nèi)提供各種光學(xué)配置。FR-Scanner-AllInOne-Mic-XY200光學(xué)膜厚儀模塊化厚度測(cè)繪系統(tǒng)平臺(tái),集成了先進(jìn)的光學(xué)、電子和機(jī)械模塊,用于表征圖案化薄膜光學(xué)參數(shù)。典型案例包括(但不限于)微圖案表面、粗糙表面等。該機(jī)型光學(xué)模塊功能強(qiáng)大,可測(cè)量的光...

  • 2022-11-24

    掩模對(duì)準(zhǔn)光刻機(jī)是將二維圖案轉(zhuǎn)印到平坦基板上的方法。可以通過(guò)以下兩種基本方法之一實(shí)現(xiàn)圖案化:直接寫入圖案,或通過(guò)掩模版/印章轉(zhuǎn)移圖案。限定的圖案可以幫助限定襯底上的特征(例如蝕刻),或者可以由沉積的圖案形成特征。通過(guò)計(jì)算機(jī)輔助設(shè)計(jì)(CAD)定義圖案模式。多數(shù)情況下,這些特征是使用抗蝕劑形成的,可以使用光(使用光致抗蝕劑),電子束(使用電子束抗蝕劑)或通過(guò)物理沖壓(不需要抗蝕劑,也叫納米壓?。﹣?lái)定義圖案特征。圖案的特征可以被轉(zhuǎn)移到另一個(gè)層蝕刻,電鍍或剝離。掩模對(duì)準(zhǔn)光刻機(jī)的技術(shù)領(lǐng)域...

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