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揭秘定心儀:高精度光學系統(tǒng)裝調(diào)導語:在光學系統(tǒng)的精密裝調(diào)中,定心儀作為必須工具,其重要性不言而喻。隨著光學行業(yè)的飛速發(fā)展,對成像質(zhì)量要求的不斷提升,傳統(tǒng)的被動裝調(diào)法已難以滿足中高光學系統(tǒng)的需求。今天,我們就來深入揭秘定心儀——這一光學裝調(diào)領(lǐng)...
紅外激光測厚儀是用來測量材料及物體厚度的儀表。在工業(yè)生產(chǎn)中常用來連續(xù)或抽樣測量產(chǎn)品的厚度。這類儀表中有利用α射線、β射線、γ射線穿透特性的放射性厚度計;有利用超聲波頻率變化的超聲波厚度計;有利用渦流原理的電渦流厚度計;還有利用機械接觸式測量原理的測厚儀等。應(yīng)用領(lǐng)域:黃金,鉑,銀等貴金屬和各種首飾的含量檢測;金屬鍍層的厚度測量,電鍍液和鍍層含量的測定;主要用于貴金屬加工和首飾加工行業(yè);銀行,首飾銷售和檢測機構(gòu);電鍍行業(yè)。紅外激光測厚儀主要類型:1、紙張測厚儀:適用于4mm以下的...
在SEMICON展會期間,為半導體、微機電系統(tǒng)(MEMS)和納米技術(shù)應(yīng)用提供晶圓處理解決方案的*企業(yè)EVG隆重推出了用于高亮度發(fā)光二極管(HB-LED)批量生產(chǎn)的第二代全自動掩模對準系統(tǒng)。GenII在發(fā)布第一代EVG620HBL的一年后推出,提供一個工具平臺,主要用于滿足HB-LED客戶的特定需求,以及市場對降低總所有權(quán)成本的不斷要求。另外,EVG620HBLGenII還優(yōu)化了晶圓廠的工具足跡——與競爭產(chǎn)品相比,每平方米潔凈室空間的晶圓產(chǎn)出量提高了55%。HBLGenII專為...
橢圓偏振儀是一種用于探測薄膜厚度、光學常數(shù)以及材料微結(jié)構(gòu)的光學測量設(shè)備。由于并不與樣品接觸,對樣品沒有破壞且不需要真空??蓽y的材料包括:半導體、電介質(zhì)、聚合物、有機物、金屬、多層膜物質(zhì)??梢詰?yīng)用于半導體、通訊、數(shù)據(jù)存儲、光學鍍膜、平板顯示器、科研、生物、醫(yī)藥等領(lǐng)域。橢圓偏振儀的結(jié)構(gòu):本產(chǎn)品常用的光學元件有下列幾種:1、光源:橢圓偏振儀的理想光源是強度穩(wěn)定,從紫外到近紅外整個波長范圍內(nèi)輸出近似為常數(shù),目前大多選用Xe或Hg-Xe燈是比較合理的,但是它在UV強度較弱,而在880~...
等離子去膠和等離子清洗機是專門設(shè)計用來滿足晶圓批處理或單晶片處理,具有廣泛應(yīng)用,從晶圓的光刻膠剝離到表面改性都涉及到。該系列的設(shè)備采用PC控制,可以配套不同的等離子源,加熱或不加熱基片夾具,可以從PE等離子刻蝕切換到RIE刻蝕模式,也就是說可以支持各向同性和各向異性的各種應(yīng)用。等離子去膠機基本工藝流程:1、將圓片從片盒內(nèi)取出,放置到工藝腔內(nèi),執(zhí)行所選定的工藝文件完成去膠,將圓片放到冷卻臺上(如有需要),最后將圓片送回片盒。為了獲得更高的產(chǎn)量,可以使用熱絕緣的Teflon片盒,...
折射率測量儀能測出蔗糖溶液的質(zhì)量分數(shù)(錘度Brix)(0-95%,相當于折射率為1.333-1.531)。故此儀器使用范圍甚廣,是石油工業(yè)、油脂工業(yè)、制藥工業(yè)、制漆工業(yè)、日用化學工業(yè)、制糖工業(yè)和地質(zhì)勘察等有關(guān)工廠、學校及有關(guān)科研單位*的常用設(shè)備之一。折射率測量儀的準備工作:1、在開始測定前,必須先用蒸餾水或用標準試樣校對讀數(shù)。如用標準試樣則對折射棱鏡的拋光面加1—2滴溴代萘,再貼上標準試樣的拋光面,當讀數(shù)視場指示于標準試樣上之值時,觀察望遠鏡內(nèi)明暗分界線是否在十字線中間,若有...