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動態(tài)激光干涉儀是一種高精度的光學(xué)測量儀器，主要用于測量光學(xué)元件的表面形貌、材料的熱膨脹系數(shù)、機械應(yīng)力場等。該儀器基于干涉原理，通過激光光束的干涉效應(yīng)來實現(xiàn)對被測對象的測量和分析。它廣泛應(yīng)用于工業(yè)生產(chǎn)、科學(xué)研究、醫(yī)學(xué)診斷等領(lǐng)域，具有高精度、快...
納米壓印光刻系統(tǒng)制造商SwissLithoAG今天宣布一種聯(lián)合解決方案，可以生產(chǎn)最小到單納米級的3D結(jié)構(gòu)。該方案最初在由歐盟第七框架計劃資助的“超越CMOS器件的單納米制造（SNM）”項目中得到證明，該方案涉及SwissLitho的新型NanoFrazor熱掃描探針光刻系統(tǒng)，以生產(chǎn)具有3D結(jié)構(gòu)的主模板用于納米壓印光刻系統(tǒng)和EVG。目標(biāo)應(yīng)用：EVG和SwissLitho最初將以聯(lián)合解決方案為目標(biāo)，以開發(fā)衍射光學(xué)元件和其他相關(guān)光學(xué)組件，以支持光子學(xué)，數(shù)據(jù)通信，增強/虛擬現(xiàn)實和其他...
光刻技術(shù)是將二維圖案轉(zhuǎn)印到平坦基板上的方法。可以通過以下兩種基本方法來實現(xiàn)圖案化：直接寫入圖案，或通過掩模版/印章轉(zhuǎn)移圖案。設(shè)定的圖案可以幫助生成襯底上的特征，或者可以由沉積的圖案形成特征。通過計算機輔助設(shè)計（CAD）定義圖案模式。多數(shù)情況下，這些特征是使用抗蝕劑形成的，可以使用光（使用光致抗蝕劑），電子束（使用電子束抗蝕劑）或通過物理壓?。ú恍枰刮g劑，也叫納米壓印）來定義圖案特征。圖案的特征可以被轉(zhuǎn)移到一個基板，再進行蝕刻，電鍍或剝離。1.技術(shù)領(lǐng)域根據(jù)所需的特征，有幾種不...
Microsense電容式位移傳感器提供高穩(wěn)定性和線性方案、高分辨率、高帶寬測量方案，用于測量硬盤驅(qū)動馬達，氣動軸承轉(zhuǎn)子，X-Y樣品臺準(zhǔn)確度，光盤，汽車零部件和機床等測量。它的用途廣泛：金屬薄片厚度測量，振動測量，工作臺垂直度和平坦度測量，精密馬達轉(zhuǎn)軸偏振測量，精密儀器工作平臺定位，設(shè)備自動聚焦測量（微影設(shè)備、原子力顯微鏡、光罩探測、圖像確認(rèn)、LCD生產(chǎn)設(shè)備…）它的安裝難度：它是易于安裝的Microsense電容式位移傳感器。MicroSense的電容式位移傳感器使用單個傳感...
光學(xué)膜厚儀的薄膜光譜反射系統(tǒng)，可以很簡單快速地獲得薄膜的厚度及nk，采用r-θ極坐標(biāo)移動平臺，可以在幾秒鐘的時間內(nèi)快速的定位所需測試的點并測試厚度，可隨意選擇一種或極坐標(biāo)形、或方形、或線性的圖形模式，也可以編輯自己需要的測試點。針對不同的晶圓尺寸，盒對盒系統(tǒng)可以很容易的自動轉(zhuǎn)換，匹配當(dāng)前盒子的尺寸。49點的分布圖測量只需耗時約45秒。用激光粒度分布儀測試膠體的粒度分布時應(yīng)配合其它檢測手段驗證測試結(jié)果的準(zhǔn)確性，同時應(yīng)使用去離子水作為分散介質(zhì)，防止自來水中的電解質(zhì)造成顆粒團聚影響...
Microsense電容式位移傳感器具有一般非接觸式儀器所共有的非接觸式特點外，還具有信噪比高，靈敏度高，零漂小，頻響寬，非線性小，精度穩(wěn)定性好，抗電磁干擾能力強和使用操作方便等優(yōu)點。目前，Microsense電容式位移傳感器在國內(nèi)研究所，高等院校、工廠等部門得到廣泛應(yīng)用，成為科研、教學(xué)和生產(chǎn)中一種不能缺少的測試儀器。Microsense電容式位移傳感器的分類簡介：1、被動式：被動式位移傳感器為一種非接觸式精密位置傳感器?；谧非笞罴训木€性和穩(wěn)定性而設(shè)計，其測量帶寬高達20千...
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