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掩模對準(zhǔn)光刻系統(tǒng)包括光復(fù)印和刻蝕工藝兩個(gè)主要方面

更新時(shí)間：2022-11-17 | 點(diǎn)擊率：968

　　掩模對準(zhǔn)光刻系統(tǒng)與我們的生活息息相關(guān)，我們用的手機(jī)，電腦等各種各樣的電子產(chǎn)品，里面的芯片制作離不開光科技束。如今的世界是一個(gè)信息社會，各種各樣的信息流在世界流動。而光刻系統(tǒng)是保證制造承載信息的載體。在社會上擁有不可替代的作用。

　　光刻系統(tǒng)的技術(shù)原理：

　　掩模對準(zhǔn)光刻就是把芯片制作所需要的線路與功能區(qū)做出來。利用光刻機(jī)發(fā)出的光通過具有圖形的光罩對涂有光刻膠的薄片曝光，光刻膠見光后會發(fā)生性質(zhì)變化，從而使光罩上得圖形復(fù)印到薄片上，從而使薄片具有電子線路圖的作用。

　　這就是光刻的作用，類似照相機(jī)照相。照相機(jī)拍攝的照片是印在底片上，而光刻刻的不是照片，而是電路圖和其他電子元件。

　　掩模對準(zhǔn)光刻系統(tǒng)是一種精密的微細(xì)加工技術(shù)。常規(guī)光刻系統(tǒng)是采用波長為2000～4500埃的紫外光作為圖像信息載體，以光致抗光刻技術(shù)蝕劑為中間（圖像記錄）媒介實(shí)現(xiàn)圖形的變換、轉(zhuǎn)移和處理，然后把圖像信息傳遞到晶片（主要指硅片）或介質(zhì)層上的一種工藝。

　　在廣義上，掩模對準(zhǔn)光刻系統(tǒng)包括光復(fù)印和刻蝕工藝兩個(gè)主要方面：

　　1、光復(fù)印工藝：經(jīng)曝光系統(tǒng)將預(yù)制在掩模版上的器件或電路圖形按所要求的位置，精確傳遞到預(yù)涂在晶片表面或介質(zhì)層上的光致抗蝕劑薄層上。

　　2、刻蝕工藝：利用化學(xué)或物理方法，將抗蝕劑薄層未掩蔽的晶片表面或介質(zhì)層除去，從而在晶片表面或介質(zhì)層上獲得與抗蝕劑薄層圖形整體一致的圖形。集成電路各功能層是立體重疊的，因而掩模對準(zhǔn)光刻工藝總是多次反復(fù)進(jìn)行。例如，大規(guī)模集成電路要經(jīng)過約10次掩模對準(zhǔn)光刻才能完成各層圖形的全部傳遞。

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