光學(xué)膜厚儀是利用薄膜干涉光學(xué)原理,對(duì)薄膜進(jìn)行厚度測(cè)量及分析。用從深紫外到近紅外可選配的寬光譜光源照射薄膜表面,探頭同位接收反射光線。光學(xué)膜厚儀根據(jù)反射回來(lái)的干涉光,用反復(fù)校準(zhǔn)的算法快速反演計(jì)算出薄膜的厚度。測(cè)量范圍1nm-3mm,可同時(shí)完成多層膜厚的測(cè)試。對(duì)于100nm以上的薄膜,還可以測(cè)量n和k值。
應(yīng)用領(lǐng)域:
半導(dǎo)體制造業(yè),光刻膠、氧化物、硅或其他半導(dǎo)體膜層的厚度測(cè)量;
生物醫(yī)學(xué)原件:聚合物/聚對(duì)二甲苯;生物膜/球囊壁厚度;植入藥物涂層;
微電子:光刻膠;硅膜;氮化鋁/氧化鋅薄膜濾鏡;
液晶顯示器:盒厚;聚酰亞胺;導(dǎo)電透明膜;
由于是光學(xué)測(cè)量,在測(cè)量時(shí)候無(wú)須擔(dān)心破壞樣品,讓用戶簡(jiǎn)單快速地測(cè)量薄膜的厚度和光學(xué)常數(shù),通過(guò)對(duì)待測(cè)膜層的上下界面間反射光譜的分析,幾秒鐘內(nèi)就可測(cè)量結(jié)果。
1、非接觸式測(cè)量:光學(xué)膜厚儀采用的原理是通過(guò)光的反射原理對(duì)膜層厚度進(jìn)行測(cè)量,屬于非接觸式測(cè)量方法,不會(huì)對(duì)樣品造成任何損傷,能夠保證樣品的完整性。
2、測(cè)量數(shù)據(jù)多樣:可以測(cè)得物體的膜厚度和n,k數(shù)據(jù),這是其它類型的膜厚儀所不具備的特點(diǎn)。
3、測(cè)量快速:光學(xué)膜厚儀的測(cè)量過(guò)程非??焖?,因?yàn)樵撛O(shè)備采用了先進(jìn)的結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì),能夠ji大程度的提升測(cè)量效率,相比于其他類型膜厚測(cè)量設(shè)備來(lái)說(shuō)顯得非常輕巧方便。
4、適用范圍廣:光學(xué)膜厚儀的適用范圍非常廣泛,從普通家用到工廠的工業(yè)生產(chǎn),再到大學(xué)實(shí)驗(yàn)室和科學(xué)研究所,都可以看到它的身影,由此可見它的使用范圍極其廣泛,能夠作業(yè)的場(chǎng)合也變得更加多樣化。